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全國產化！國內首條12寸硅光芯片流片平臺正式投用

時間：2025-11-12

來源：智能制造網

導語：日前，國內首條基于12寸40nm CMOS工藝線的全國產化硅光PDK(工藝設計套件)、TDK(測試設計套件)及ADK(封裝設計套件)流片服務平臺正式在光谷投用。

　　11月11日消息，據“中國光谷”微信公眾號介紹，日前，國內首條基于12寸40nm CMOS工藝線的全國產化硅光PDK(工藝設計套件)、TDK(測試設計套件)及ADK(封裝設計套件)流片服務平臺正式在光谷投用。

　　該平臺由國家信息光電子創新中心(NOEIC)建設運營，標志著光谷企業在硅光領域實現又一關鍵突破。

　　據介紹，傳統芯片靠電子傳輸數據，好比汽車運貨，硅光芯片則讓光子穿梭于光纖，變身“光速高鐵”。

　　該平臺創新構建硅光MPW服務模式，通過將多個芯片設計集成于同一晶圓流片，實現成本分攤，大幅降低研發門檻。

　　平臺基于40nm制程的硅光PDK1.0性能總體達到商用要求，其加工精度、波導損耗、光耦合效率等指標達國際先進水平。

　　據了解，除PDK外，平臺還集成了TDK和ADK，可提供芯片從集成設計到封裝驗證的全流程支撐，可滿足科研成果轉化和產品研制中的快速迭代需求。

　　近年隨著技術成熟及AI需求爆發，硅光芯片在人工智能、大數據等前沿產業領域迎來大規模應用。

　　咨詢機構LightCounting預計，到2030年硅光芯片在光通信芯片市場占比將增至60%。


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