【 B-421 BIX小型線性平臺 】

　　——面向嚴苛高科技應用的精密穩定定位系統

　　現代高科技定位應用面臨長期定位穩定性、納米級重復精度、緊湊型設計、狹小空間靈活配置等核心挑戰。即使是輕微偏差也可能導致功能失效。因此，對分辨率、穩定性和集成能力提出了嚴苛要求。B-421 BIX小型線性平臺專為滿足這些技術需求而設計。

　　狹窄空間內的高精度

　　采用雙相慣性驅動的小型線性平臺

　　實現長期穩定的納米級精密定位

　　優勢概覽

　　出色精度

　　最小位移：10nm

　　穩定性

　　自鎖機構可實現長期高穩定性定位

　　適應性

　　高有效載荷和驅動力

　　節省空間，配置靈活

　　緊湊型設計，易于堆疊，靈活實現多軸組合

　　精密定位

　　高分辨率和重復精度

　　重要參數概覽

　　最小位移：10nm

　　尺寸：25×11mm(寬×高)

　　行程范圍：13至33mm

　　分辨率：6nm

　　最大驅動力：2.5N

　　最大有效載荷：

　　0.5kg(X向運動);0.15kg(任意方向)

　　便捷易用的PIMikroMove軟件

　　精確的光束整形與偏轉

　　現代高精度系統的成功，尤其依賴于光學元件的納米級精密穩定定位。光束操控的典型需求包括：反射鏡、光闌和透鏡的長期定位，以及可重復光束偏轉的納米級精密對準。市場亟需結構緊湊并能靈活集成至多軸系統的納米級精密定位方案。這對半導體領域(例如套刻量測)以及顯微領域(例如TIRF和STED等超分辨顯微技術)的光束質量控制尤為重要。

　　【 應用：光束整形與偏轉 】

　　光束整形與偏轉可精密定制光束，滿足半導體、顯微成像等高技術應用的需求。這些應用要求光學元件具有長期定位能力，并盡可能降低漂移。PI小型線性平臺采用雙相慣性驅動技術，提供高推力、高分辨率的精密定位及長期穩定性，是嚴苛工業應用或顯微任務的理想選擇。其緊湊結構尤其適用于空間受限場景，而易于堆疊的特性則可靈活配置多軸系統，滿足復雜定位需求。在半導體領域，光束整形與偏轉技術在晶圓的質量控制環節尤為重要，例如套刻量測中的光闌精密定位。在顯微技術領域，它們可實現納米量級的光路精確調控，為全內反射熒光(TIRF)和受激發射損耗(STED)等現代超分辨顯微技術提供核心支撐。

　　采用壓電慣性驅動的線性平臺

　　實現精準穩定的光束操控

　　主要特點

　　最小位移僅10nm，精度出眾

　　自鎖機構可實現長期高穩定性定位(無需電源)

　　高分辨率和可重復性，實現納米級精密定位

　　緊湊型設計，節省安裝空間

　　易于堆疊，靈活實現多軸組合

　　B-421 BIX小型線性平臺

　　雙相慣性驅動技術

　　最小驅動力：2.5N

　　行程為13mm、23mm或33mm

　　最大有效載荷：0.5kg(XY向運動);0.15kg(任意方向)

　　便捷易用的PI軟件： PIMikroMove

　　集成增量編碼器，分辨率高達6nm

　　運動控制器E-881

　　指令集： GCS 3.0

　　USB和TCP/IP接口

　　驅動程序集，可用于C、C++、C#、

　　NI LabVIEW、MATLAB和Python等

　　仿真器可用

　　1個主動軸

　　2路模擬輸入，4路數字輸入/輸出