

ETD-900C濺射蒸發儀
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ETD-900C 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致,是北京意力博通技術發展有限公司針對SEM用戶研制生產的一款既能濺射金、銀、銅、鉑又能蒸發碳膜的一機多用設備。此款機器具有小巧方便操作簡單成膜效果好之優點,可以滿足廣大SEM用戶隨時樣品制備的需要。工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及選擇所需的電離氣體,獲得最佳鍍膜效果。 配有高位定性的飛躍真空泵
濺射氣體 | 濺射靶材 | 濺射電流 | 濺射速率 | 樣品倉尺寸 | 樣品臺尺寸 | 工作電壓 |
根據實驗目的可添加氬氣,氮氣等多種氣體。 | 標配靶材為金靶,厚度為50mm*0.1mm。也可根據實際情況配備銀靶、鉑靶等。蒸發材質為碳繩。 |
最大電流 50mA,最大工作電流30mA |
優于40nm/min |
直徑160mm,高120mm |
樣品臺尺寸可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺,樣品臺可調節高度。也可根據自身要求定制樣品臺 |
220V (可做110V), 50HZ |

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